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GalvanoTest 2000一般用法和測量原理
點擊次數(shù):2698 更新時間:2019-11-05
 

GalvanoTest 2000一般用法和測量原理:
根據(jù)DIN 50955 / ISO 2177的電量分析法或電化學(xué)去鍍技術(shù),適用于測量幾乎所有基材上的電鍍涂層,即:鋼,有色金屬以及絕緣材料(例如金屬)上的電鍍層鋼上的鎳,鋼上的鋅,銅上的錫,銅上的銀和環(huán)氧樹脂上的銅。該方法也適用于測量多層系統(tǒng)的各個涂層,例如鉻對鎳,銅對鋼。

測量原理基于法拉第定律。使用與電鍍方法相反的方法,從樣品中化學(xué)去除涂層。為此,將不銹鋼測量池放置在要測量的樣品上。電池充滿電解質(zhì)溶液,該電解質(zhì)溶液根據(jù)涂層/基體組合選擇。放置在樣品池和樣品之間的橡膠墊圈確定了測量區(qū)域,例如4平方毫米測量裝置電連接到電子處理單元。當(dāng)接通時,恒定電流流過電解質(zhì)以電化學(xué)方式電化學(xué)去除金屬涂層。在整個電鍍過程中,可以在測量單元和要測量的對象之間觀察到定義的電壓。一旦金屬涂層被*去除,就會出現(xiàn)特征電壓躍變。該電壓跳變被測量儀記錄下來,以中斷電壓供應(yīng)并停止計時器。厚度立即以密耳或微米顯示。

 
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